STAIB INSTRUMENTS是世界領先的高性能表面分析儀器供應商之一，我們的反射式高能電子衍射儀（RHEED）和差分式反射式高能電子衍射儀（TorrRHEED）被廣泛應用于各種薄膜生長原位監控，世界各大真空鍍膜設備制造商均采用我們的產品，如德國Omicron，法國Riber，荷蘭TSST等等，得到了國內外各大企業以及科研院所的一致認可！
反射式高能電子衍射得到廣泛運用是與分子束外延(MBE)技術發展有關。它可用于原位觀察外延薄膜生長情況，為改進生長條件提供依據。反射高能衍射具有較高的表面靈敏度(10~40埃),但它不僅限于作單晶表面結構分析，也可用于多晶、孿晶、無定形表面及微粒樣品的表面結構分析。也可用來作物相鑒定、測定晶體取向和原子位置。此外，電子衍射可以用來測定晶體的空間群。
RHEED特點：
電子槍能量范圍：10 keV ~60 keV
工作氣壓范圍：從UHV到1×10-5 mbar
高性能電子槍：高亮度、小斑點、低分散、極低放氣率
熒光屏：鍍鋁保護涂層
遠程控制：實現電子束聚焦、偏轉及電子閘門功能
電子束偏轉角度：±15°
選配：一級差分，工作氣壓可達10-3 Torr
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直達具體產品分子束外延系統（MBE）、 脈沖激光沉積系統（PLD)、 反射式高能電子衍射儀（RHEED)、蒸發源、 離子源?、電子槍
