脈沖激光沉積靶臺

自旋式靶臺

自旋式靶臺通過靶材的自轉來保證灼蝕的均勻性。自轉是由一個直流馬達通過旋轉饋通器來控制的。

根據不同需求，可選擇幾個靶材單獨自轉或是同時自轉。

可以通過步進馬達自動選靶，以實現多層膜自動化生長。

掃描式靶臺

在掃描式靶臺中，靶材可在水平和垂直方向進行掃描，從而使激光相對掃過靶材表面，但羽輝的位置以及角度相對于基片不發生改變，保證了沉積的穩定性。

在進行多次連續沉積實驗的時，可以選擇掃描靶材的不同區域。因此，靶材可以長時間使用，而不需要每次沉積后都打磨靶材表面，使靶材的損耗最小化。

相比于自旋式靶臺，掃描式靶臺可以根據不同的靶材調整掃描范圍，可用于不規則形狀的靶材。

掃描以及選靶均由電腦自動控制，可用于多層膜自動化生長實驗。