分子束外延系統（MBE）OCTOPLUS 300是一款多用途且功能完善的緊湊型MBE系統，非常適合小尺寸樣品的薄膜材料生長。設計雖然緊湊，但是可以裝配多個不同種類源爐，實現各種材料的外延薄膜生長。
腔體尺寸： 350 mm ID，液氮冷屏
本底真空： < 8 × 10-11 mbar
樣品尺寸： 最大2 英寸，向下兼容小尺寸樣品
加 熱 器： SiC，W等多種類型可選，最高溫度達1500 ℃
源爐法蘭： 8× DN63CF
應用領域： 拓撲絕緣體，金屬，二維材料（金屬硫化物／硒化物）等
產品特點：
● 緊湊型專業MBE設計
● 應用于III/V族， II/VI族，金屬，磁性材料，拓撲絕緣體，二維材料等
● 最大2 英寸樣品，并向下兼容
● 8個標準的CF法蘭
● 專業液氮冷屏設計
● 多種樣品臺加熱器（Option）
● 樣品臺液氮冷卻（Option）
我們可以根據客戶需求，提供不同種類的蒸發源，包括K-cell、電子束蒸發源、熱裂解源、閥式裂解源、氣體裂解源等。可以使用石英晶振，反射式高能電子衍射儀(RHEED)或者四極桿質譜儀實現樣品生長的原位監測。
如有設備需求或技術咨詢歡迎隨時聯系我們。
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