原子氫源HABS：III-V族襯底表面低溫清洗
原子氧源OBS：氧化物薄膜的生長，表面清洗
微波等離子體源
- 功率：5-20 W/2.5 GHz
- 氣體流量：1-10 sccm
- 適用氣體：N2, H2, O2
- 應(yīng)用：表面清洗，氧化物和氮化物材料的制備
氧原子源-OBS是一種熱模式的氣體裂解源，可以產(chǎn)生沒有離子狀態(tài)的H原子束流，可以有效避免離子轟擊對(duì)襯底的影響。
特點(diǎn)：
氧原子裂解效率可達(dá)到：80%
原子氫密度高達(dá)10^15/s*cm2
沒有高能粒子和離子存在
低功耗
集成水冷
氫原子源-HABS是一種熱模式的氣體裂解源，可以產(chǎn)生沒有離子狀態(tài)的H原子束流，可以有效避免離子轟擊對(duì)襯底的影響。
產(chǎn)品特點(diǎn)：
氫原子裂解效率可達(dá)到：80%~98%
原子氫密度高達(dá)10^16/s*cm2
沒有高能粒子和離子存在
低功耗：< 200 W
集成水冷
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直達(dá)具體產(chǎn)品分子束外延系統(tǒng)（MBE）、 脈沖激光沉積系統(tǒng)（PLD)、 反射式高能電子衍射儀（RHEED)、蒸發(fā)源、 離子源?、電子槍
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